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電鍍銅工藝溶液超高濃度過(guò)氧化氫測(cè)定。
測(cè)定鍍銅浴中的過(guò)氧化氫濃度 無(wú)需滴定、無(wú)需計(jì)算的光度法、過(guò)氧化氫濃度測(cè)定 可不受銅濃度和硫酸濃度的影響進(jìn)行測(cè)量 可在無(wú)稀釋的情況下高濃度測(cè)量至120g/L 小型、輕量，可攜帶測(cè)量
品 名 | 過(guò)氧化氫濃度測(cè)定儀 |
型 號(hào) | H2O2-V1 |
測(cè)量対象 | 用于硫酸銅電鍍，鎳蝕刻溶液，高濃度過(guò)氧化氫濃度 |
測(cè)量原理 | 吸光光度法 |
測(cè)量范圍 | 0.0~120.0g/L |
分辨率 | 0.1g/L |
重復(fù)性 | ５％以?xún)?nèi) |
操作精度 | ±５％以?xún)?nèi)（FS) |
光源 | ?。蹋牛?/span> |
日本笠源理化學(xué)是專(zhuān)業(yè)電鍍，半導(dǎo)體，消毒行業(yè)檢測(cè)儀器生產(chǎn)廠家。電鍍儀器在日本占有率位。
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